7月9-11日

2021中國材料大會暨展覽會即將于7月9-11日在廈門國際會展中心召開，徠卡顯微系統受邀參會。

公司簡介

徠卡顯微系統總部位于德國維茲拉，自公司十九世紀成立以來，徠卡以其對光學成像的追求和不斷進取的創新精神始終得到業界廣泛認可。徠卡在復合顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微系統、激光共聚焦掃描顯微系統、電子顯微鏡樣品制備和醫療手術顯微技術等多個顯微光學領域處于世界優先地位。自創立至今，徠卡的光學足跡已遍及全球100多個國家，在歐洲、亞洲與北美有6大產品研發與生產基地，在20多個國家設有銷售或服務支持中心，以及遍布全球的經銷商服務網絡。

展位號：H01
徠卡顯微系統展品
展品介紹：徠卡EM TIC 3X離子研磨儀

徠卡EM TIC 3X通過離子槍激發獲得的離子束，以垂直于樣品側面縱向轟擊樣品，可獲得高質量無應力“切割"的樣品截面，便于SEM觀察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復合材料等高難度制備樣品，并且操作簡單，可有效避免涂抹效應，不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面，使樣品暴露內部細微真實結構信息。還可選配旋轉樣品臺，冷凍樣品臺，三樣品臺等，滿足各種應用及高通量需求。
展品介紹：徠卡EM TXP 精研一體機

徠卡EM TXP是一款多功能機械修塊研磨拋光一體機，適用于對目標定位，進行銑削、切割、沖鉆、研磨、修塊及拋光等。特別適合于對樣品微小目標的精細定位、切割等加工。其主要功能為：可用于光鏡觀察前樣品切割、機械拋光等制備；可用于EM TIC 3X/UC7樣品前制備，對樣品進行機械修塊；還可用于EM RES102樣品前制備，獲得Φ3mm樣品圓薄片。
展品介紹：徠卡EM ACE600高真空鍍膜儀

徠卡EM ACE600是一款高真空鍍膜儀，采用全無油真空系統，真空度可達2x10-6mbar。鍍膜細膩均勻。內置石英膜厚監控器，可精確控制鍍膜厚度。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。可選離子濺射鍍膜功能，滿足高分辨場發射掃描電鏡需求，可選碳絲碳棒蒸發鍍膜功能，用于X射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網噴碳膜。還可選擇電子束蒸發鍍膜，用于DNA投影等高級應用。
展品介紹：徠卡M205光學顯微鏡

革新性的光學概念，克服了傳統體視顯微鏡的固有局限性，擁有徠卡Fusion Optics融合光學技術。Leica M205 C是擁有20.5:1變倍比的體視顯微鏡，光學分辨率高達0 . 9 2 5 μ m ，內置可調雙光闌，可調景深和分辨率。同時M205 C也是一款編碼顯微鏡，可自動控制照明強度，可自動識別所采集的照片倍數，并加載相應倍數的比例尺。存儲圖像時，參數隨同圖像一起保存，以便隨時調用。

徠卡顯微系統報告

分會場D06

先進微電子與光電子材料

報告題目

芯片的電鏡制樣方法

報告人

包沈源（徠卡顯微系統電鏡制樣應用工程師）

報告時間

7月9日15:50-16:05

分會場E02 

材料界面/表面分析與表征

報告題目

材料平整斷面的制備和觀察方法

報告人

武素芳（徠卡顯微系統電鏡制樣應用工程師）

報告時間

7月10日17:05-17:25

展區現場技術報告

現場會議區B

報告題目

徠卡電鏡制樣在新能源和半導體材料領域的應用

報告人

包沈源（徠卡顯微系統電鏡制樣應用工程師）

報告時間

7月10日13:30-14:00

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